磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统

服务单位

上海大学

购置日期:2014-01-30

制造厂商:DE

生产国别:无

规格型号:DE4500

单位地址:上海市宝山区上大路99号上海大学

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详细信息与指标

功能/应用范围:薄膜制备、器件制备

主要附件:分子泵;机械泵

主要技术指标:腔体极限真空度<5.0×10-8托;溅射阴极3个:2个2英寸,1个4英寸强磁;单基片承载最大尺寸为4英寸基片;基片可加热温度≥800度;基片可自转,转速:0-20rpm

技术特色:具有较高的真空度,可薄膜制备、器件制备一体化。

服务实例:无

仪器的服务信息

每年可供对外服务(机时):无

上年对外服务(机时):无

接待时间(工作日):每周五

收费标准(元/样品):300

每小时占用费用(元):无

仪器联系人:黄健

联系电话:66136126

传真:无

电子邮箱:jianhuang@shu.edu.cn