垂直碳纳米管阵列批量制备技术

项目单位

上海理工大学

技术成熟度: 实验室研发与小试已完成,具备中试技术条件。

适用推广的地区: 无限制。

关键字 :

对合作单位的基本要求: 合作单位应具有雄厚的经济实力与产品前瞻性,最小投资额1千万元。合作方提供资金与场地,我方提供技术指导。

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项目联系人

成果概况

属于新技术类别,该项目采用国际先进的水分辅助化学气相沉积技术, 生长高品质单壁、多壁碳纳米管垂直阵列。

专利情况

已申请并公开国家发明专利2项。 一种制备高纯度单壁碳纳米管垂直阵列的方法,申请号:201010262098.X,公开号:CN101948105A。 一种定向碳纳米管纳滤膜的制备方法,申请号:201310178710.9,公开号:CN103212305A。

市场前景与领域运用

碳纳米管阵列是在范德华力作用下,由垂直于基片生长的碳纳米管组成的宏观结构。由于很大程度上继承了碳纳米管一维纳米材料的特征,因此碳纳米管阵列在场发射显示、热界面材料、传感器、电极材料等方面具有重要的应用前景。

技术创新点

采用水分辅助化学气相沉积技术,所生长碳纳米管阵列的纯度(高于98%)显著高于其他生长方法,碳纳米管阵列高度大于1000微米,并且结晶质量良好。
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